反對也沒用！光刻機新規定來了，ASML或将徹底無緣中國市場
我們都知道，中國的半導體行業絕對是一個薄弱的産品，特别是在芯片制造的領域，我們其實還是相當受制于人的，畢竟在這一方面，我們在芯片設計上，幾乎不成問題，也擁有像華為海思，阿裡平頭哥這樣的芯片研發公司，但是從另一方面，我們也需要清楚的認識到，芯片制造上，還是無法和三星、台積電這樣的世界頂尖大廠相比，這其中原材料和FDA等方面确實是沒辦法自己解決，并且最重要的光刻機同樣也是。
對于光刻機，相信大家都有所耳聞，光刻機的生産難度可以說是相當高，首先要了解光刻機是幹嘛的，顧名思義光刻機就是利用光通過帶有圖形的光罩，對塗有光刻膠的薄皮進行曝光，讓最底層的薄片可以複制上去，最終具有電子電路圖的功能，其原理有點類似于照相機攝像機。而根據公開資料展示，一台光刻機一天大約可以生産600塊芯片基闆，一年差不多就可以超過20萬枚，可以說是相當重要的。
而在整個行業中，光刻機幾乎就是半導體行業不可或缺的東西，不管是汽車還是手機，乃至航天、軍事等方面的相關芯片，都離不開光刻機的，畢竟現在的芯片都是矽基材料的，即便是現在，還暫時沒有新的材料可以替代它。所以光刻機幾乎就是目前世界上最頂尖的科技之一，隻被一部分國家掌握了一部分的關鍵技術，而荷蘭的ASML幾乎就是整個行業的龍頭老大，光一家就占據了差不多80%的市場。
當然，也因為一些衆所周知的原因，ASML最先進的EUV光刻機是沒辦法購買的，早些年中芯國際公司購買的兩台EUV光刻機，即便是已經付款，現在都還沒有發貨到來。這其中最大的原因，還是老美在從中阻撓，所以EUV光刻機，國内的半導體企業也基本上是不用想了，而ASML方面也在積極想辦法維護我們國内的客戶，既然最先進的EUV光刻機沒辦法銷售，那就銷售僅次于EUV光刻機的DUV光刻機。
然而現在有個不好的消息，那就是可能ASML的DUV光刻機也可能和我們無緣了，最近有消息稱，老美正在向荷蘭以及日本相關企業施壓，要求ASML以及尼康公司，停止向中國出售相關的DUV光刻設備，換句話說，此前阻撓了中芯國際或者EUV光刻機之後，可以說對于中國半導體的封鎖已經延伸到了不是最先進的7納米制程工藝節點，如果老美新的規定發出之後，ASML或将徹底無緣中國市場了。
雖說沒有EUV光刻機那麼先進，但是DUV光刻機也依然非常重要，在汽車芯片、計算機乃至機器人芯片，都是非常需要這台DUV光刻機能夠生産出來的芯片。所以這也讓老美抓住機會，開始加強封鎖我們的半導體産業。并且正如我們上面說到的那樣，除了荷蘭的ASML公司以外，老美還對相關日本企業進行了施壓，主要就是我們熟悉的相機企業尼康，在這一領域尼康擁有ArFi光刻機，具有少部分的市場，目前看起來确實是也要徹底封鎖了。
這個消息，其實不管是尼康還是ASML都不算個好消息，對于尼康就還好，畢竟還有其他的業務進行支撐，但ASML則完全不一樣，它幾乎就是一家專營光刻機研發和銷售的公司，而中國市場幾乎全都是ASML的大客戶，畢竟像三星和台積電這種公司，也不可能每年都會買相關的光刻機，而需要光刻機又有能力用的，還買得起的，恐怕隻有中國的相關公司了，所以ASML才會一直反對各種禁令。
根據相關資料來看，ASML公司幾乎占據了整個高端光刻機市場90%以上的份額，同時也是全球唯一一家能夠提供7納米以下EUV光刻機的公司，并且ASML的光刻機還在不停的進化，未來将可以生産更高制程工藝的光刻機，也隻有全靠ASML了。
而根據此前ASML公司發布的2021年全年營收數據來看，去年全年營收在186.11億歐元，其中同比增長了35%左右，其中賣光刻機賺的營收差不多在136.53億歐元左右，占據了幾乎80%以上，其中總共銷售了287台光刻機系統。如果具體到相關台數的話，EUV光刻機賣出了42台，總價值為63億歐元，銷售占比高達46%，而不那麼先進的AfFi和ArF光刻機系統加起來賣了212台，同樣也是占據了銷售的46%。
在這些光刻機的最終買家來看，來自中國大陸的占比是非常高的，擁有34%的銷售占比，而像美國和日本隻有6%和7%左右，足以看出中國市場對于ASML的重要性，如果ASML失去中國大陸市場的話，還會引發一系列的連鎖反應，比如客戶恐慌等等，在營收數據上可能會幾乎“腰斬”。
不管從什麼方面來看，中國大陸市場對于ASML都非常的重要，即便是在整個行業受到了缺芯以及疫情反複的情況影響，中國整個芯片市場依然是逆勢增長。而對于大力發展芯片行業的中國市場，先進的光刻機絕對是很多半導體企業的剛需，一旦提高芯片制造的産能，還會進一步刺激中國芯片産業繼續擴大産能，中國市場對于AMSL的重要性會進一步加強。
其實對于ASML來說，他們也非常了解中國市場對于公司的份量，ASML的公司高管其實不止一次的對外公開表示，中國是ASML的最好合作夥伴，中國市場對于ASML來說也非常重要，但是市場規則被老美修改之後，其實ASML也确實無能為力。并且ASML高管曾經不止一次的警告過老美，如果再繼續全面封鎖和打壓的話，隻能加速中國的自主研發道路，甚至還有可能會喚醒其他國家的獨立意識，到時候吃虧的恐怕就不隻是ASML了。
其實，在國内的話，我們也在光刻機産品進行了發力，雖說EUV光刻機還是隻有ASML可以獨家生産，但是對于整個芯片行業來說，EUV光刻機确實是隻占了很小的一部分，事實上，即便是5納米這樣的先進工藝，都不是全部需要EUV光刻機進行生産，隻是很小一部分隻需要EUV光刻機，大部分都是使用的DUV光刻機完成的。所以，不管是EUV還是DUV光刻機都是非常重要的，即便是有DUV光刻機相關的産業得到了突破，都是非常振奮人心的。
而目前的DUV光刻機又分為好幾個種類，主要為KRF、ARF和ARFi幾個類型，其中比較先進的就是ARFi光刻機，也就是所謂的浸潤型光刻機，等效波長能夠達到134納米，而ARF和KRF光刻機的波長則分别是193納米以及248納米，波長越短越先進，換句話說，ARFi光刻機是DUV光刻機中最先進的，能夠掌握ARFi光刻機的話，就是目前DUV光刻機的全部技術。
如果想要突破最先進的DUV光刻機，從名字上我們就能看出，難點是在于浸潤的技術，這也是我們國産光刻機為什麼長時間不能突破28納米的最關鍵原因之一。不過，最近我們國内的相關企業奇爾機電，在光刻機浸潤技術方面得到了相關的突破，在高端集成半導體産業上，也成功叠代到了第八代，實現了浸潤時對于液體的高精度控制，可以控制到0.001度的誤差，可謂是相當不容易。
并且相關的光刻機研發實驗基地，也開啟了中期的測試以及試産，換句話說就是現在DUV光刻機的研制以及基本不成問題，未來着重解決的就是良率和生産率的問題。再加上前段時間國望光學在光刻機曝光系統以及鏡頭提供上，做出的技術突破，可以說在浸潤型光刻機上的主要技術難點，都已經被基本突破了。
可能有人覺得不就是28納米而已，有一些不以為然，但需要知道的是，28納米算是一個關鍵的技術節點，隻要突破了28納米，很快就會來到20納米甚至是14納米。并且由于在關鍵技術上，比如曝光系統、光源有了很好的突破，在未來即便是達到7納米技術來說，至少在光刻機上，區别還是并不太大的。
在2022年的4月份中，清華大學的朱煜教授做帶頭的團隊，發布公開消息，表示在團隊和華卓精科公司的共同突破下，自研光刻機雙工作台研發成功，後者則是中國光刻機核心零部件的頂尖供應商，也算是打破了ASML在光刻機雙工作台領域的壟斷，成為全球第二家擁有此項技術的公司以及團隊。
如果我們放到ASML的老路來看，ASML從28納米的光刻機到7納米的光刻機，用了5年左右的時間，不出意外的話，我們也需要五到六年時間，才可以有機會突破到7納米的技術上來。盡管我們的光刻機水平和國外先進技術依然有不少的差距，但進步非常明顯，總有一天我們也一定可以追上國際先進光刻機技術的步伐。
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